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(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)

ProductNum CAS No. MDL No. PubChem ID Formula MW Purity Appearance
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Product Name (4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)
CAS0-0-YH84015
ProductNumYH84015
FormulaC37H46O3S2
MW602.29

電子級(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸鹽是一種高純度锍鹽化合物,結合了三芳基锍陽離子的優(yōu)異光敏性和特殊苯磺酸鹽的強酸穩(wěn)定性。該產(chǎn)品具有出色的光敏性能和化學穩(wěn)定性,廣泛用于高端半導體和微電子制造中的光刻膠及相關領域。

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[基本信息]

中文名稱:(4-(叔丁基)苯基)二苯基锍 2,4,6-(1-甲基乙基)苯磺酸鹽 (1:1)

英文名稱:(4-(tert-butyl)phenyl)diphenylsulfonium,2,4,6-tris(1-methylethyl)benzenesulfonate(1:1)

分子式:C37H46O3S2

分子量:602.29 g/mol

外觀:淺黃色至白色粉末或晶體。

純度:≥99.9%,符合電子級標準。

溶解性:
1)溶于極性有機溶劑,如乙腈、二氯甲烷。
2)對水不溶,表現(xiàn)出較高的疏水性。

熱穩(wěn)定性:在高溫條件下(最高250-300°C)仍能保持化學穩(wěn)定性。

光敏特性:在紫外光激發(fā)下表現(xiàn)出優(yōu)異的反應性能。

[應用領域]

光刻膠配方

1)用于深紫外(DUV)和極紫外(EUV)光刻技術,提高分辨率和顯影對比度。

2)提升光刻膠的曝光靈敏度,滿足納米級微圖形制造需求。

微電子與半導體制造

1)應用于干法蝕刻技術,支持高精度微納加工。

2)作為化學放大光刻膠的重要光敏劑,提高光刻工藝效率。

高性能材料研發(fā)

1)用于制備具有耐高溫和抗化學腐蝕的功能薄膜。

2)支持高端顯示設備、新能源器件及微電子封裝的精密制造。

優(yōu)勢

本產(chǎn)品憑借其優(yōu)異的光敏性能、高純度及熱化學穩(wěn)定性,為半導體制造工藝提供關鍵支持,適用于苛刻環(huán)境下的高精度制造需求。


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86-571-82693216
CS
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